中国版“曼哈顿计划”曝光？路透社称中国首台EUV光刻机已进入测试

据路透社近日援引匿名内部人士消息称，中国已成功研发首台极紫外（EUV）光刻机原型机，并已进入测试阶段。报道指出，这台设备由华为统筹协调，在国家层面主导的专项计划中推进，规模被形容为“中国版曼哈顿计划”。

消息称，该光刻机主要由出生于中国、曾任职于荷兰阿斯麦（ASML）的前工程师团队通过逆向工程参与研发。由于技术封锁，中国无法获得尖端光学组件（如德国蔡司镜头），转而通过二手市场采购旧款光刻机零件，并组织团队进行拆解、仿制与重组。为规避法律风险，部分核心人员使用了经国家备案的化名身份。

报道提到，中国自2019年起推行人才引进计划，以高额补贴吸引海外专家回国，甚至允许保留双重国籍。尽管阿斯麦曾通过诉讼追究前员工涉嫌技术泄露，但跨境执法面临困难。

若消息属实，中国将成为全球第二家掌握EUV光刻机技术的国家。不过，原型机体积据称比阿斯麦设备大数倍，或因功率妥协所致，且量产仍面临供应链自主化挑战。阿斯麦首席执行官此前曾公开质疑中国短期内突破EUV技术的可能性，但根据爆料，首台测试机已在2025年初完成。

这一进展若获证实，可能显著改变全球高端芯片供应链格局，加速中国实现半导体全产业链自主化的目标。

（注：本文内容基于路透社报道的匿名信源，相关技术细节与进展尚未获官方证实。）